招標公告
1. 招標條件
本招標項目介質層淀積設備（SIH4+TEOS） 該項目已具備招標條件，現對介質層淀積設備（SIH4+TEOS）進行國內公開招標。
2. 項目概況與招標范圍
2.1 招標編號：ZKX20240429A022
2.2 招標項目名稱：介質層淀積設備（SIH4+TEOS）。
2.3 數量：1臺。
2.4 主要功能要求：該設備為國產全新8寸SIH4+TEOS混源的介質淀積設備，自帶SMIF（或同類裝置），RFID及EAP通訊功能，配置三個PECVD TWIN Chamber（2個SIH4腔，1個TEOS腔，所有腔室均配置LH+HF組件），擁有PEOX工藝、SRO工藝、SIN工藝、SRN工藝、SION工藝、FSG工藝和USG工藝等功能，每個Chamber擁有In-situ N2 plasma處理功能。
2.5 交貨
2.6 交貨期：合同生效后150天。
3. 投標人資格要求
3.1投標人須為具有獨立承擔民事責任能力的在中華人民共和國境內注冊的法人或其他組織，具備有效的營業執照或事業單位法人證書或其它營業登記證書。
3.2業績要求：投標人提供本次投標同型號或同系列的設備從2020年至今的任意一年的銷售業績，且一年中累計銷售量至少10臺；須提供設備采購合同復印件，其內容須體現合同首頁及簽字或蓋章頁（合同供貨方可以是本次投標人也可以是本次所投設備制造商）、合同簽訂時間、合同標的物及其型號。
3.3 其它要求：本次招標接受代理商投標。投標人若為代理商，則須提供所投產品制造商的授權書。
3.4本次招標不接受聯合體投標。
3.5投標人必須向招標代理機構
